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本发明涉及一种光刻胶剥离液，包括特征性有机胺、辅助性有机胺、极性有机溶剂、腐蚀抑制剂，主要针对当前的光刻胶剥离液操作窗口小，对晶圆基底腐蚀性较强，特别是对深度硬化交联的光刻胶残余物以及负型厚膜光刻胶去除能力较弱等问题，提供一种去胶能力强，操...
该专利属于昆山欣谷微电子材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过昆山欣谷微电子材料有限公司授权不得商用。

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