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本发明一种360°全视场角衍射光学元件及其设计方法，包括基底层和蚀刻在基底层工作面上周期排列的若干纳米砖，所述基底层可划分为若干与纳米砖相对应的单元结构，所有单元结构长宽高相同，单个单元结构的工作面为正方形，其边长为400nm，所有纳米砖的...
该专利属于武汉大学所有，仅供学习研究参考，未经过武汉大学授权不得商用。

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