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用于半导体工艺的主动式衬底对准系统及对准衬底的方法技术方案
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下载用于半导体工艺的主动式衬底对准系统及对准衬底的方法的技术资料
文档序号:16049456
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本发明提供一种用于离子注入机的主动式衬底对准系统以及一种对准衬底的方法,衬底系统包含压板;对齐装置,其经调适以选择性地移动邻近于压板安置的衬底接合表面,用于限制安置在压板上的衬底的移动;相机,其经配置以在衬底安置在压板上之前获取衬底的图像;...
该专利属于瓦里安半导体设备公司所有,仅供学习研究参考,未经过瓦里安半导体设备公司授权不得商用。
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