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本发明涉及一种在衬底(20)上沉积一个或多个特别是有机层的装置或方法，包括具有蒸发器(1',11')的工艺气体源(1,11)，在该蒸发器(1',11')中源调温器(2,12)产生源温度(T1,T1')，其中，向该蒸发器(1',11')中通入...
该专利属于艾克斯特朗欧洲公司所有，仅供学习研究参考，未经过艾克斯特朗欧洲公司授权不得商用。

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