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本发明提供一种晶片的清洗方法。[课题]提供在表面具有凹凸图案的晶片的制造方法中用于改善容易诱发图案倾塌的清洗工序的清洗方法。[解决方法]所述清洗方法是表面具有凹凸图案的晶片的清洗方法，其至少具有以下工序：用清洗液(8)清洗上述晶片(1)的工...
该专利属于中央硝子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过中央硝子株式会社授权不得商用。

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