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一种制备亲疏图案的光刻方法技术
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文档序号:16037110
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本发明公开了一种制备亲疏图案的光刻方法,包括以下步骤:首先在基底上涂覆或喷涂带有图案的图案连接层,其次涂覆、喷涂或旋涂表面涂层,最后由紫外光或太阳光或可见光或红外光进行照射,得到亲疏图案;所述的基底的材料选自玻璃、金属、合金、不锈钢、墙体、...
该专利属于中国科学院广州能源研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院广州能源研究所授权不得商用。
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