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本发明公开了一种合金钢表面直流磁控溅射技术制备W‑N硬质膜的方法。该方法先将基体研磨、抛光、超声清洗，利用电弧增强辉光放电技术对其表面进行离子清洗与刻蚀，而后采用直流磁控溅射技术（DCMS），在一定基体负偏压、沉积温度、靶功率密度（3~20...
该专利属于华南理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过华南理工大学授权不得商用。

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