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本专利公开了提供了一种H型喷头的MOCVD匀气上下盘组件，包括：第一进气口、第二进气口第三进气口；第一腔室、第二腔室以及与第三腔室；第一种气体喷头区域、第二种气体喷头区域、第三种气体喷头区域；所述第一种气体喷头与第一腔室连通；所述第二种气体...
该专利属于北京中科优唯科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京中科优唯科技有限公司授权不得商用。

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