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本发明涉及制备用于发光器件的层压基板的方法，所述方法包含下列相继步骤：(a)提供具有1.45至1.65的在550 nm下的折射率的玻璃基板(1)，(b)将包含至少30重量%的Bi2O3并具有至少1.7的在550 nm下的折射率的玻璃釉料(3...
该专利属于法国圣戈班玻璃厂所有，仅供学习研究参考，未经过法国圣戈班玻璃厂授权不得商用。

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