透明漫射型OLED基板和制造此类基板的方法技术

本发明专利技术涉及制备用于发光器件的层压基板的方法，所述方法包含下列相继步骤：(a)提供具有1.45至1.65的在550 nm下的折射率的玻璃基板(1)，(b)将包含至少30重量%的Bi2O3并具有至少1.7的在550 nm下的折射率的玻璃釉料(3)涂布到所述玻璃基板(1)上，(c)在高于所述玻璃釉料的Littleton温度的温度下烧制所得釉料涂布的玻璃基板，由此形成第一高折射率釉质层(4)，(d)将金属氧化物层(2)涂布到所述第一高折射率釉质层上，(e)在530℃至620℃的高于所述玻璃釉料的Littleton温度的温度下烧制所得涂布的玻璃基板，由此使所述金属氧化物(2)与下方的第一高折射率釉质层(4)反应并形成具有嵌在与空气的界面附近的第二高折射率釉质层(5)上部的多个球形空隙(6)的第二高折射率釉质层(5)，和任选地(f)在第二高折射率釉质层(5)上涂布透明导电层（TCL）(8)。

Transparent diffusion type OLED substrate and method for manufacturing such substrate

The invention relates to a preparation method of laminated substrate for light emitting device, wherein the method comprises the following steps: (a) have been provided with a glass substrate 1.45 to 1.65 in the 550 nm refractive index (1), (b) will contain at least 30 wt.% of Bi2O3 and has at least 1.7 in 550 nm the refractive index of glass frit (3) coated onto the glass substrate (1), (c) the glaze coating on the glass substrate by Littleton is higher than that of the glass glaze temperature, thereby forming a first high refractive index enamel layer (4), (d) metal oxygen compound coating layer (2) to the first high refractive index enamel layer, (E) glass substrate coated on the firing of the resulting 530 DEG to 620 DEG C higher than that of the glass glaze Littleton temperature, the metal oxide (2) and below the first high refractive index layer of enamel (4) reaction and form Embedded in the air near the interface with the second high refractive index enamel layer (5) over the upper part of the spherical void (6) of the second high refractive index enamel layer (5), and optionally (f) in second high refractive index enamel layer (5) coated on the transparent conductive layer (TCL) (8).

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】透明漫射型OLED基板和制造此类基板的方法本专利技术涉及制造用于有机发光二极管（OLED）的半透明光散射玻璃基板的新方法和可通过这种方法获得的基板。OLED是包含夹在两个电极之间的含荧光或磷光染料的有机层的堆叠体的光电子元件，其中至少一个电极是半透明的。当向电极施加电压时，由阴极注入的电子和由阳极注入的空穴在有机层内结合，以从该荧光/磷光层发光。众所周知，来自传统OLED的光提取相当差，大部分光通过全内反射陷在高折射率有机层和透明导电层（TCL）中。全内反射不仅在高折射率TCL和下方玻璃基板（大约1.5的折射率）之间的边界处发生，还在玻璃与空气的边界处发生。根据估算，在不含任何附加提取层的传统OLED中，有机层发出的光的大约60%陷在TCL/玻璃边界处，另外20%的份额陷在玻璃/空气表面处，只有大约20%离开OLED进入空气。已知借助在TCL和玻璃基板之间的光散射层降低这种光截留(entrapment)。这样的光散射层含有具有接近TCL折射率的高折射率的透明基质并含有多个具有不同于该基质的折射率的光散射单元（elements）。这样的高折射率基质通常通过熔结高折射率玻璃釉料获得，由此在本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制备用于发光器件的层压基板的方法，其包括至少下列步骤：(a) 提供具有1.45至1.65的在550 nm下的折射率的玻璃基板(1)，(b) 将具有至少1.7的在550 nm下的折射率的玻璃釉料(3)涂布到所述玻璃基板(1)上，所述玻璃釉料包含至少30重量%的Bi2O3，(c) 在高于所述玻璃釉料的Littleton温度的温度下烧制所得釉料涂布的玻璃基板，由此形成第一高折射率釉质层(4)，(d) 将金属氧化物层(2)涂布到所述第一高折射率釉质层上，和(e) 在530℃至620℃的高于所述玻璃釉料的Littleton温度的温度下烧制所得涂布的玻璃基板，由此使所述金属氧化物(2)与下方的第一高折...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.12.01 EP 14195677.11.一种制备用于发光器件的层压基板的方法，其包括至少下列步骤：(a)提供具有1.45至1.65的在550nm下的折射率的玻璃基板(1)，(b)将具有至少1.7的在550nm下的折射率的玻璃釉料(3)涂布到所述玻璃基板(1)上，所述玻璃釉料包含至少30重量%的Bi2O3，(c)在高于所述玻璃釉料的Littleton温度的温度下烧制所得釉料涂布的玻璃基板，由此形成第一高折射率釉质层(4)，(d)将金属氧化物层(2)涂布到所述第一高折射率釉质层上，和(e)在530℃至620℃的高于所述玻璃釉料的Littleton温度的温度下烧制所得涂布的玻璃基板，由此使所述金属氧化物(2)与下方的第一高折射率釉质层(4)反应并形成具有嵌在与空气的界面附近的第二高折射率釉质层(5)上部的多个球形空隙(6)的第二高折射率釉质层(5)。2.根据权利要求1的方法，其中所述金属氧化物层具有5至60纳米，优选10至40纳米，更优选15至30纳米的厚度。3.根据权利要求1或2的方法，其中所述金属氧化物选自TiO2、Al2O3、ZrO2、Nb2O5、HfO2、Ta2O5、WO3、Ga2O3、In2O3和SnO2及其混合物。4.根据前述权利要求任一项的方法，其中所述玻璃釉料的折射率在1.70至2.20之间，优选在1.80至2.10之间。5.根据前述权利要求任一项的方法，其中所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：李荣盛，韩镇宇，
申请(专利权)人：法国圣戈班玻璃厂，
类型：发明
国别省市：法国,FR