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本发明公开了一种硅片预对准机构、曝光装置及曝光方法，所述硅片预对准机构通过扫描设置在所述硅片预对准机构上的硅片边缘，对所述硅片进行预对准，包括3个以上用于进行预对准操作的图像传感器和位于工件台上与所述图像传感器对应的基准标记，所述图像传感器...
该专利属于上海微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备有限公司授权不得商用。

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