The invention discloses a wafer pre alignment exposure mechanism, device and exposure method, the wafer pre alignment mechanism is arranged at the edge of the silicon wafer pre alignment mechanism by scanning, pre alignment of the silicon wafer, including more than 3 for image sensor pre alignment operation and is located in the corresponding reference mark the image sensor on the work table, the image sensor through the acquisition of the reference mark the location information, to obtain the position information of the workpiece table. The technical scheme provided by the invention by setting more than 3 fiducial marks on the worktable, the work station station after switching the location information by image sensor datum and the tag corresponding to the reference mark, obtaining switching error of the workpiece table, compensate according to the position deviation of the switching error on a silicon wafer.
【技术实现步骤摘要】
硅片预对准机构、曝光装置及曝光方法
本专利技术涉及一种硅片预对准机构、曝光装置及曝光方法,应用于集成电路生产领域。
技术介绍
在集成电路生产过程中,光刻机的曝光装置主要采用步进式或者步进扫描式两种曝光方式,随着光刻机分辨率和生产效率要求的提升,通常采用双物料承载台的方法,减少物料交接时间,提高光刻机的产量,即一个曝光装置包括两个工件台,一个为测量位工件台,一个为曝光位工件台,通过交接位的上片和下片,实现两个工件台交替作业。因此,在保证产率的同时,对光刻机中双工件台的工位切换提出了较高的重复性要求,以保证光刻机产率和精度。现有技术提出了一种安装两套零位传感器减小切换误差的方法,这种方法使用两套零位传感器分别对测量位和曝光位的工件台进行测量和校正,切换精度较低,为微米级,所述两套零位传感器在测量时需要工件台停止运作,增加了光刻机流程,所述零位传感器常采用PSD传感器,成本较高。现有技术还提出了一种在双工件台的工作路径上增加第三套测量传感器的方法,这种方法通过指定工件台的移动轨迹,并在工件台的移动轨迹上全程设置光栅尺结构,对工件台进行全程测量,在工件台进行工位切换过程中 ...
【技术保护点】
一种硅片预对准机构,通过扫描设置在所述硅片预对准机构上的硅片边缘,对所述硅片进行预对准,其特征在于,包括3个以上用于进行预对准操作的图像传感器和位于工件台上与所述图像传感器对应的基准标记,所述图像传感器通过采集所述基准标记的位置信息来获得工件台的位置信息。
【技术特征摘要】
1.一种硅片预对准机构,通过扫描设置在所述硅片预对准机构上的硅片边缘,对所述硅片进行预对准,其特征在于,包括3个以上用于进行预对准操作的图像传感器和位于工件台上与所述图像传感器对应的基准标记,所述图像传感器通过采集所述基准标记的位置信息来获得工件台的位置信息。2.根据权利要求1所述的硅片预对准机构,其特征在于,所述图像传感器采用CCD传感器。3.根据权利要求1所述的硅片预对准机构,其特征在于,所述图像传感器采用面阵CCD传感器。4.根据权利要求1所述的硅片预对准机构,其特征在于,所述图像传感器和所述基准标记的数量均为3个,所述基准标记分布在一组正交直线上。5.根据权利要求1所述的硅片预对准机构,其特征在于,所述图像传感器包括成像器件、电机和镜头,所述镜头与所述成像器件连接,所述电机驱动所述镜头在垂向运动。6.一种曝光装置,其特征在于,包括主基板、设置在所述主基板上的硅片预对准机构、第一工件台和第二工件台,所述硅片预对准机构包括3个以上图像传感器和两组分别位于所述第一工件台和第二工件台上、与所述图像传感器对应的基准标记,所述图像传感器通过扫描设置在所述硅片预对准机构上的硅片边缘,对所述硅片进行预对准,且采集所述基准标记的位置信息,所述主基板平行于所述第一工件台和第二工件台,所述主基板上还设置有物镜、硅片对准系统和硅片调焦调平系统,所述物镜与照明系统及掩模台对应设置。7.根据权利要求6所述的曝光装置,其特征在于,所述图像传感器和每组所述基准标记的数量均为3个,每组所述基准标记分布在一组正交直线上。8.根据权利要求6或7所述的曝光装置,其特征在于,所述图像传感器包括成像器件、电机和镜头,所述镜头与所述成像器件连接,所述电机驱动所述镜头在垂向运动。9.根据权利要求6所述的曝光装置,其特征在于,还...
【专利技术属性】
技术研发人员:徐伟,
申请(专利权)人:上海微电子装备有限公司,
类型:发明
国别省市:上海,31
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