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本文公开了一种掩膜板的制作方法和掩膜板。所述掩膜板的制作方法包括：在测试基台上对基准掩膜板上的制作图案进行位置测量，将所述制作图案的测量位置与设计位置进行比较获得所述基准掩膜板上各处的图案位置偏差量；参考所述基准掩膜板上各处的图案位置偏差量...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司授权不得商用。