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本发明公开了一种显示设备、阵列基板及其制作方法，其中该阵列基板，包括:半导体层；第一栅极绝缘层，形成于所述半导体层一面，且通过第一方法形成；第二栅极绝缘层，形成于所述第一栅极绝缘层的背对所述半导体层一侧，且通过第二方法形成；其中，所述第一方...
该专利属于深圳市华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电技术有限公司授权不得商用。

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