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基于高阻盖帽层的Ⅲ族氮化物极化超结HEMT器件及其制法制造技术
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下载基于高阻盖帽层的Ⅲ族氮化物极化超结HEMT器件及其制法的技术资料
文档序号:15879554
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本发明公开了一种基于高阻盖帽层的III族氮化物极化超结HEMT器件及制法,所述器件包括:第一异质结,包括第一半导体和形成于第一半导体上的第二半导体,所述第二半导体具有宽于第一半导体的带隙,且所述第一异质结构中形成有二维电子气;第二异质结,包...
该专利属于苏州能屋电子科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过苏州能屋电子科技有限公司授权不得商用。
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