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本发明提供的单晶圆湿式处理装置，用于防止晶圆边缘的底面遭受化学液或腐蚀性气体的腐蚀，其包括旋转夹头、背洗座及环形气体喷嘴。所述背洗座包括环形平面，所述环形平面与所述晶圆之底面具有预定间距。所述环形气体喷嘴开设于所述背洗座的所述环形平面上，并...
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