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TiON膜的成膜方法技术
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文档序号:15865957
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本发明的课题在于,提供一种能够成膜平滑性优越的TiON膜的TiON膜的成膜方法。其解决方法在于,在成膜初期阶段中,将重复含Ti气体和氮化气体的交替供给X1次后、供给氧化剂的循环进行Y1循环,在之后的成膜阶段中,将重复含Ti气体和氮化气体的交...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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