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本实用新型公开了可提高MOCVD反应腔内载盘温度均匀性的加热装置，晶片载盘正下方的加热器包括内圈、中圈和外圈，加热器下方设有多层隔热板，隔热板下设有反射板，支撑轴从内圈穿过，并支撑起晶片载盘；内圈的内表面覆盖热辐射层。本实用新型加热器分成三...
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