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本发明实施例提供一种蒸镀坩埚、蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法，涉及真空蒸发镀膜领域，能够解决现有的蒸镀坩埚无法有效控制排气阀的开启时间，从而影响蒸镀过程的问题。包括：坩埚本体，在坩埚本体上设置有至少一个蒸镀出口。磁性盖片，盖设在蒸镀出口位置处，...
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