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本发明公开了一种选择性去除卷烟烟气中ＴＳＮＡ的分子印迹材料及其制备和应用方法。分子印迹材料的制备步骤如下：在合成分子印迹材料其前，先将硅胶活化、硅烷化；然后将功能单体溶解于致孔剂中，加入交联剂，引发剂，硅烷化硅胶，使之在真空下反应；接着利用...
该专利属于湖南中烟工业有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过湖南中烟工业有限责任公司授权不得商用。

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