一种选择性去除卷烟烟气中ＴＳＮＡ的分子印迹材料及其制备和应用方法技术

本发明专利技术公开了一种选择性去除卷烟烟气中ＴＳＮＡ的分子印迹材料及其制备和应用方法。分子印迹材料的制备步骤如下：在合成分子印迹材料其前，先将硅胶活化、硅烷化；然后将功能单体溶解于致孔剂中，加入交联剂，引发剂，硅烷化硅胶，使之在真空下反应；接着利用化学或者物理方法将模板分子从硅胶表面高分子材料中移去。在聚合物中形成了与模板分子空间匹配，具有特异性排列的多重作用位点的大量空穴，这样的空穴对ＴＳＮＡ分子具有高效选择性。本发明专利技术用于卷烟烟气选择性降害时最好能够应用于复合嘴棒中，其添加量可以根据需要任意调节。将本发明专利技术物以４０ｍｇ／支添加到嘴棒中能够在不影响烟气其它组分的情况下降低烟气中ＴＳＮＡ含量２５．１％，从而到达选择性降害的目的。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种对巻烟烟气中TSNA具有选择性去除作用的材料及其制备 和应用方法。
技术介绍
降焦减害是关系到吸烟者身体健康的重要问题，多年以来，各烟草研究机 构一直致力于该工作的研究，并且取得了大量研究成果，烟气中有害成分相对有 了较大幅度降低。但是采用这些手段降害的选择性并不高，部分地影响到了巻烟 原有风格口味。巻烟烟气成分相当复杂，从这种复杂混合物中选择性分离去除特 定物质已是巻烟工业降害大势所趋，但同时也非常困难。分子印迹材料(MIPs)是一种新近开始研究的高分子材料，它具有类似于 生物酶的活性和选择性，某些印迹材料所表现的对目标物的高亲和性和选择性证 明比得上相应的免疫亲和相，而且它在大多数介质中稳定且可在长时间内再用。 因此在材料选择性识别领域它已得到广泛重视。近年来已经出现了用分子印迹材 料识别小分子的许多报告。例如Wulff，G.Angew，Chemie. 1995 (34) 1812中有述。烟草特有亚硝胺TSNAs的研究最早始于20世纪60年代初。1962年， 国际上首次在科技文献中报道烟草中含有亚硝胺及其有潜在的致癌作用。目前， 有关TSNAs的致癌机制在国内本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种选择性去除卷烟烟气中ＴＳＮＡ的分子印迹材料，其特征在于：由下述方式制备而成，选取４０－６０目硅胶，用酸回流将其活化，洗涤干燥；之后用硅烷偶联剂将其硅烷化；按摩尔比：１∶３～１５∶１０～２５，分别取模板分子、功能单体、交联剂，将模板分子，功能单体溶解于致孔剂中，加入交联剂，引发剂，硅烷化硅胶，将上述物质置于反应器中混合均匀，充入氮气，真空，密封，在５０～７０℃恒温水浴反应１２～２４小时，产物过筛取４０～６０目颗粒，用稀酸或者酸与醇的混合溶液将产物中的模板分子以及多于未反应物除去，进一步超声提取，洗涤，真空干燥，即得；所述模板分子为含吡啶基的有机物。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈潜，银董红，金勇，李克，
申请(专利权)人：湖南中烟工业有限责任公司，
类型：发明
国别省市：43[中国|湖南]