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硅片清洗台制造技术
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文档序号:15814727
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本实用新型公开了一种硅片清洗台,包括工作台,所述工作台上从右向左依次固定设有第一超声波清洗槽、第一冲水槽、第二超声波清洗槽、第三超声波清洗槽和第二冲水槽,所述第一超声波清洗槽和第二超声波清洗槽开口的后侧均通有热水管,所述第三超声波清洗槽开口...
该专利属于重庆长捷电子有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过重庆长捷电子有限公司授权不得商用。
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