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本发明提供一种成膜装置。该成膜装置在真空容器内使旋转台旋转，而使旋转台上的多个基板依次通过处理气体的供给区域，由此在基板上成膜，其包括：凹部，其在所述旋转台的一面侧沿着周向设有多个，形成为分别收纳所述基板；载置部，其用于在所述凹部内支承基板...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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