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本发明公开了一种双氧水稳定剂及双氧水蚀刻液，属于金属蚀刻领域。该双氧水稳定剂中同时含有醇羟基和醚键，且该双氧水稳定剂中碳原子的个数为3-12。本发明提供的具有如上结构双氧水稳定剂，将其用于双氧水体系的金属蚀刻液中时，其能够明显抑制过氧化氢的...该专利属于上海飞凯光电材料股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海飞凯光电材料股份有限公司授权不得商用。
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