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本申请提供一种基片对准方法、基片对准装置和物理气相沉积方法，该基片对准方法包括：使基片转动，并且在所述基片的转动角度满足预设条件时，使所述基片停止转动；拍摄所述基片的图像；当所述基片的图像和预设的标准图像匹配时，将所述基片传送至预定位置。根...
该专利属于上海新微技术研发中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海新微技术研发中心有限公司授权不得商用。

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