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本发明涉及一种蒸镀掩膜版、其制作方法、电磁蒸镀装置及蒸镀方法,用以解决现有的电磁蒸镀装置中,由于重力的作用蒸镀掩膜版的中间位置下垂较多,蒸镀材料容易在间隙处发生衍射的问题。该蒸镀掩膜版包括:掩膜版主体,设置在掩膜版主体上的多个开口;每个开口...该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。
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本发明涉及一种蒸镀掩膜版、其制作方法、电磁蒸镀装置及蒸镀方法,用以解决现有的电磁蒸镀装置中,由于重力的作用蒸镀掩膜版的中间位置下垂较多,蒸镀材料容易在间隙处发生衍射的问题。该蒸镀掩膜版包括:掩膜版主体,设置在掩膜版主体上的多个开口;每个开口...