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本发明提供了薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板及电子设备,该薄膜晶体管包括:栅极;栅绝缘层;有源层;源漏电极,其中,在所述源漏电极靠近所述栅极的表面设置有保护结构。发明人发现,通过在源漏电极靠近所述栅极的表面设置保护结构,可以避免在刻蚀过程对...该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。
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本发明提供了薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板及电子设备,该薄膜晶体管包括:栅极;栅绝缘层;有源层;源漏电极,其中,在所述源漏电极靠近所述栅极的表面设置有保护结构。发明人发现,通过在源漏电极靠近所述栅极的表面设置保护结构,可以避免在刻蚀过程对...