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本发明提供一种低阻且可抑制负阻效应的SOI‑LIGBT器件及其制造方法，其元胞结构包括衬底、埋氧层、厚介质层、厚硅层漂移区、P阱区、P型重掺杂发射极区、第一N型重掺杂区、N型buffer区、P型重掺杂集电极区、第二N型重掺杂区、集电极介质阻...该专利属于电子科技大学;电子科技大学广东电子信息工程研究院所有，仅供学习研究参考，未经过电子科技大学;电子科技大学广东电子信息工程研究院授权不得商用。