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基于多周期量子阱结构的HEMT器件制造技术
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下载基于多周期量子阱结构的HEMT器件的技术资料
文档序号:15693037
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本发明公开了一种基于多周期量子阱结构的HEMT器件,包括衬底,衬底上生长缓冲层,缓冲层上生长量子阱有源层;量子阱有源层包括:势垒层、隔离层、沟道层和缺陷层;量子阱有源层上设置源极、漏极和栅极,栅极位于量子阱有源层的中间,源极和漏极位于量子阱...
该专利属于东南大学所有,仅供学习研究参考,未经过东南大学授权不得商用。
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