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本发明提供的压环、预清洗腔室及半导体加工设备,其应用在预清洗腔室中,在该预清洗腔室内设置有基座,该基座包括用于承载晶片的承载面。压环用于利用自身重力压住晶片上表面的边缘区域,从而实现对所述晶片的固定;并且,通过向承载面与晶片的下表面之间输送...该专利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司所有,仅供学习研究参考,未经过北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司授权不得商用。