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一种复合阻障层及其制造方法。复合阻障层包括堆迭设置的至少一层第一阻障层与至少一层第二阻障层。第一阻障层中的Si-O-Si线状键结比例高于Si-O-Si网状键结比例。第二阻障层中的Si-O-Si网状键结比例高于Si-O-Si线状键结比例。复合...
该专利属于财团法人工业技术研究院所有，仅供学习研究参考，未经过财团法人工业技术研究院授权不得商用。

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