温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种大尺寸拼接产品的曝光方法，包括以下步骤：将光罩划分为六个区域；在晶圆上选择出功能部分和非功能部分，所述功能部分由完整功能单元拼接曝光而成，非功能部分由非完整功能单元拼接曝光而成；拼接曝光完整功能单元；拼接曝光非完整功能单元；...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。