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本发明提供一种硅基电容式声发射传感器及其制备方法,包括:声发射敏感膜;停靠环,位于声发射敏感膜的下表面;边框,位于声发射敏感膜外围,且与声发射敏感膜相隔一定的间距;边框的上表面设有上电极,下表面设有第一绝缘层;支撑膜,位于声发射敏感膜与边框...该专利属于中国科学院上海微系统与信息技术研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院上海微系统与信息技术研究所授权不得商用。
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本发明提供一种硅基电容式声发射传感器及其制备方法,包括:声发射敏感膜;停靠环,位于声发射敏感膜的下表面;边框,位于声发射敏感膜外围,且与声发射敏感膜相隔一定的间距;边框的上表面设有上电极,下表面设有第一绝缘层;支撑膜,位于声发射敏感膜与边框...