下载一种PECVD双面沉积设备的技术资料

文档序号:15630010

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本发明公开了一种PECVD双面沉积设备,包括上料区、加热腔、工艺腔、降温区和下料区,所述上料区、加热腔、工艺腔、降温区和下料区依次连接;所述工艺腔设有上通气板和下通气板,以及与上通气板和下通气板连通的气源装置;所述上通气板和下通气板皆设有通...
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