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本发明公开了一种制备电致变色薄膜的中频双靶反应溅射工艺，该工艺基于直线式多箱体连续真空镀膜设备生产线实现，包括有如下步骤：步骤S1，在玻璃基板上先直流磁控溅射沉积ITO纳米膜；步骤S2，在ITO纳米膜上磁控溅射沉积WO3阴极电致变色纳米薄膜...
该专利属于深圳市三鑫精美特玻璃有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市三鑫精美特玻璃有限公司授权不得商用。

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