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本发明涉及一种适用于砷化镓晶片的化学机械抛光组合物，属于微电子辅助材料及超精密加工工艺技术领域。本发明所述组合物包含酸性二氧化硅溶胶、表面保护膜形成剂、催化氧化剂、唑类化合物、表面活性剂和去离子水。采用本发明的组合物进行砷化镓晶片表面抛光，...
该专利属于清华大学;深圳清华大学研究院所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学;深圳清华大学研究院授权不得商用。

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