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基板处理方法以及基板处理装置制造方法及图纸
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文档序号:15573400
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本发明提供一种基板处理方法以及基板处理装置。基板处理方法是使用了处理室的基板处理方法,该处理室具有:第1处理气体供给区域;为了对供给于该第1处理气体供给区域的第1处理气体进行排气而设置的第1排气口;第2处理气体供给区域;为了对供给于该第2处...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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