温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明涉及一种非制冷红外焦平面探测器像素结构制备方法,在包含读出电路半导体基座上制作金属层;在完成图形化金属层上沉积绝缘介质层;在绝缘介质层上依次沉积第一牺牲层、第一支撑层、热敏层和第一保护层,光刻第一支撑层和第一保护层直至接触第一牺牲层,...该专利属于烟台睿创微纳技术股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过烟台睿创微纳技术股份有限公司授权不得商用。
温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明涉及一种非制冷红外焦平面探测器像素结构制备方法,在包含读出电路半导体基座上制作金属层;在完成图形化金属层上沉积绝缘介质层;在绝缘介质层上依次沉积第一牺牲层、第一支撑层、热敏层和第一保护层,光刻第一支撑层和第一保护层直至接触第一牺牲层,...