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本申请公开了用于等离子体处理的装置和等离子体处理腔室。一种用于等离子体处理的装置包括：第一等离子体源；第一平面电极；气体分配设备；等离子体阻挡筛网；以及工件卡盘。所述第一等离子体源产生第一等离子体产物，所述第一等离子体产物从所述第一等离子体...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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