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本发明属于电子测量技术，具体涉及一种二次电子测量装置。该装置在真空腔内设置等离子体发生装置，采用等离子体中和二次电子测量时绝缘样品表面积累的电荷，能够实现二次电子总电流测量和二次电子角分布测量；能够收集反向射向电子枪的二次电子。本发明避免了...
该专利属于中国原子能科学研究院所有，仅供学习研究参考，未经过中国原子能科学研究院授权不得商用。

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