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本发明涉及单片湿法设备的显影、清洗等工艺单元中防止晶圆背面沾污的防水装置，具体地说是一种用于晶圆背面的液体防护结构，包括收集杯及位于该收集杯内、吸附晶圆并带动晶圆旋转的真空吸盘，收集杯及真空吸盘均安装在工艺单元中；收集杯分为收集杯外盖及收集...
该专利属于沈阳芯源微电子设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过沈阳芯源微电子设备有限公司授权不得商用。

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