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本发明提供一种衬底刻蚀方法，包括主刻蚀步骤和过刻蚀步骤，主刻蚀步骤进一步包括步骤S1和步骤S2，当图形侧壁出现拐角时，结束步骤S1，同时开始步骤S2；过刻蚀步骤进一步包括步骤S3和步骤S4，当拐角的高度达到固定值时，结束步骤S3，同时开始步...该专利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司授权不得商用。