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本发明提出了一种光刻胶涂覆装置和光刻胶涂覆方法。所述光刻胶涂覆装置包括：供气单元(10)，用于向光刻胶涂覆单元(20)供应气体；所述光刻胶涂覆单元(20)，包括：由侧壁、底板和盖板(206)包封的设备腔体(202)，旋转平台(204)，用于...
该专利属于中国科学院光电技术研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院光电技术研究所授权不得商用。

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