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三维半导体器件及其制造方法技术
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文档序号:15393428
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提供了一种3‑D半导体器件及其制造方法。该3‑D半导体器件包括:衬底,沿着由第一方向x和第二方向y限定的第一平面延伸,衬底具有形成在其中的管道晶体管;多个字线,沿着垂直于第一方向x和第二方向y的第三方向z以规则的间距间隔开;第一垂直插塞,通...
该专利属于爱思开海力士有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过爱思开海力士有限公司授权不得商用。
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