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本发明公开了一种基于磁控溅射的NiO电致变色薄膜生产工艺，该工艺基于立式连续真空磁控溅射设备实现，所述工艺包括：在玻璃基板上先利用直流磁控溅射方式沉积ITO纳米膜层，然后在ITO纳米膜层上利用直流磁控溅射方式沉积NiO阳极电致变色薄膜层。本...
该专利属于深圳市三鑫精美特玻璃有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市三鑫精美特玻璃有限公司授权不得商用。

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