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本发明提供一种真空蒸镀装置，包括蒸发源、待镀基底、真空室及电磁波信号输入装置，该蒸发源包括蒸发材料及碳纳米管膜结构，该碳纳米管膜结构为一载体，该蒸发材料设置在该碳纳米管膜结构表面，通过该碳纳米管膜结构承载，该蒸发源及待镀基底设置在该真空室中...
该专利属于清华大学;鸿富锦精密工业（深圳）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学;鸿富锦精密工业（深圳）有限公司授权不得商用。

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