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本发明属于半导体薄膜沉积应用及制备技术领域，具体涉及一种内置多条抽气通道的晶圆薄膜沉积反应台，其作为反应腔室的底面，直接与反应腔室螺钉连接，所述晶圆薄膜沉积反应台中心设置有抽气口，在反应台底面从抽气口向外辐射多条抽气通道，通过中心走气，缩小...
该专利属于沈阳拓荆科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过沈阳拓荆科技有限公司授权不得商用。

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