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本发明公开了一种在目标器件上形成图案化的石墨烯的方法，采用气相沉积法在金属衬底上生长的石墨烯转移至所需要应用的目标器件上的转移过程中且尚未转移到目标器件之前，先对石墨烯薄膜进行图案化，再将图案化的石墨烯薄膜最终转移至目标器件。本发明具有以下...
该专利属于无锡格菲电子薄膜科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡格菲电子薄膜科技有限公司授权不得商用。

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