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本发明提供了一种的漏电测试结构及方法。更具体地，本发明提供了应用于半导体制造领域的一种漏电测试结构及测试方法。漏电测试结构主要包括：两个梳状结构；一个用于隔离梳状结构的蛇形结构以及位于两条梳状结构之上的上层金属条，金属条通过接触孔或者通孔与...
该专利属于中国电子科技集团公司第五十八研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国电子科技集团公司第五十八研究所授权不得商用。

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