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本发明公开了一种双面对准的曝光系统，属于直写曝光机技术领域。本发明的双面对准的曝光系统包括样品承载装置和分别位于样品承载装置两侧的对位装置和曝光装置，本发明提供的双面对位曝光方法包括放板、标记、翻板、定位和曝光等步骤；实现了对半导体、PCB...
该专利属于上海誉刻智能装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海誉刻智能装备有限公司授权不得商用。

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